徐州恒霄电子科技有限公司IBE离子刻蚀机、硫化锌IBE离子刻试设备

工件台功能多元：支持圆周旋转与扫描运动模式，刻蚀角度可灵活调节，确保的刻蚀均匀性；同时兼容刻蚀与抛光双重功能，满足多样化工艺需求。

低温刻蚀：工件台配备水冷系统，能有效控制晶片温度，为低温刻蚀工艺提供稳定环境。

电荷控制可选配：可根据需求配置等离子体中和，避免晶片表面产生电荷积累，提升工艺稳定性。

参数重复性：可选配法拉测束装置，监控工艺参数，确保批量化生产中的参数一致性与可重复性。

真空系统灵活选：真空系统支持分子泵或低温泵配置，可适配不同工艺场景的真空度要求。

工件台参数

适用晶片尺寸：2"～6"，同时兼容不规则方片

运动模式：支持圆周旋转与往复扫描运动

离子源性能

类型：考夫曼离子源

离子束能量：0eV～1000eV 连续可调，满足不同材料的刻蚀能量需求

束流规格：圆形束大 200mA，条形束大 300mA

刻蚀均匀性：片内均匀性 ±5%，片间均匀性 ±3%，保证高一致性的加工质量